第12回ホトマスク技術展示会
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 出展のご案内
 
出展の受付は終了いたしました。
 
■Photomask Japan 2005 第12回ホトマスク技術展示会 開催にあたって
この度、ホトマスクジャパン組織委員会では、Photomask Japan、BACUS及びSPIEの主催により、来年4月に第12回目のホトマスクに関連した国際シンポジウム(Photomask Japan 2005)を開催する運びとなりました。
本シンポジウムは、ホトマスク及びNGLマスク等に関連する技術、材料、加工・検査装置、ソフトウェア等の講演、論文発表を通じて、広く国際的に情報・技術の交流を図ることを目的としています。更に一般論文の発表とともに、ホトマスク技術に関わる装置、部品、材料あるいはソフトウェア等を御紹介頂く場として、SEMIジャパンの協賛により技術展示会を行なうべく準備を進めております。昨年に引続き、内容の充実を図っておりますので、貴社におかれましても本展示会をぜひ有益に御活用いただき、御出展を賜りますよう御案内申し上げます。

■出展対象分野
(1) ホトマスク  
(2) マスク部材
(3) レジスト
(4) 製造/プロセス装置
  (5) 検査装置
  (6) 修正装置
  (7) 試験/測定装置
  (8) 洗浄装置
  (9) CADデータ処理
  (10) シミュレーション
  (11) 出版・サービス

■開催地
名称 : Photomask Japan 2005  第12回ホトマスク技術展示会
主催 : Photomask Japan/BACUS/SPIE
協賛 : SEMI Japan
趣旨 : ホトマスク及びNGLマスク技術に関する最新、あるいは開発中の装置、部品、材料、ソフトウェア等を紹介宣伝して頂き参加者への情報提供及び技術の将来動向、可能性等についてディスカッションを行う。
会期 : 2005年4月13日(水)-14日(木)
※シンポジウムは2005年4月13日(水)・14日(木)・15日(金)
会場 : パシフィコ横浜 アネックスホール(横浜市みなとみらい1丁目1番地)

■基礎小間仕様
Photomask Japan は、以下の基礎小間をご用意いたします。

(1) バックパネル (W1.8m × H2.4m)×1
(2) サイドパネル (W0.9m × H2.4m)×2
(3) テーブル (W1.8m × D0.6m)×1 
   +テーブルクロス ×1
(4) 椅子 ×1
(5) 蛍光灯(40W)×1
(6) 社名板(和英表記) ※希望者のみ
(7) コンセント(100V 1kW) ※希望者のみ

上記以外の装飾・備品をご希望の場合は、追加料金にて承ります。
出展料: 180,000円(税込) / 1小間
1小間につき2名様まで、1人あたり30,000円(税込)でシンポジウムに参加できます。

■出展申込規定
お申し込み方法:
添付の「出展申込書」にご記入のうえ、FAXにて展示事務局までお送りください。  
お申し込み期限: 2004年12月20日(月)  
申込書送付先: FAX. 03-3292-1813  Photomask Japan 展示事務局 宛  

1月末(予定)に「出展確定通知書」「出展マニュアル」「出展料請求書」 を送付いたします。  
2005年3月31日(木)までに、出展料をお支払いください。(銀行振込のみ)  
1小間を最小単位、最大2小間とします。  
小間位置つきましては、Photomask Japanにて勘案のうえ、決定させていただきます。  
申込小間総数が予定数を越えた場合は、調整をお願いすることがあります。  

【解約について】
展示参加確定通知後の都合によるキャンセルは、原則として認めません。やむなく出展の取り消し
をする場合は文書にてご連絡ください。この場合下記のキャンセル料をいただきます。

出展申込〜出展確定通知まで 無料
出展確定通知〜2005年2月28日(月)まで 出展小間料の 50%
2005年3月1日(火)以降 出展小間料の 100%
※「出展規約」をよくお読みください。

■今後のスケジュール(予定)
2004年12月20日(火) 出展申込締切
2005年1月末頃 「出展確定通知書」「出展マニュアル」「出展料請求書」送付
2005年2月 出展社交流会
2005年3月31日(木) 出展料お支払い期限
2005年4月12日(火) 搬入
2005年4月13日(水) 展示会
2005年4月14日(木) 展示会(終了後)即日撤去
※詳細は「出展マニュアル」にてお知らせいたします。