第12回ホトマスク技術展示会
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 PMJ2005 開催概要
 
名称 : Photomask Japan 2005  第12回ホトマスク技術展示会
主催 : Photomask Japan/BACUS/SPIE
協賛 : SEMI Japan
趣旨 : ホトマスク及びNGLマスク技術に関する最新、あるいは開発中の装置、部品、材料、ソフトウェア等を紹介宣伝して頂き参加者への情報提供及び技術の将来動向、可能性等についてディスカッションを行う。
会期 : 2005年4月13日(水)-14日(木)
※シンポジウムは2005年4月13日(水)・14日(木)・15日(金)
会場 : パシフィコ横浜 アネックスホール(横浜市みなとみらい1丁目1番地)