PMJ2008 Technical Exhibition (第15回ホトマスク技術展示会)
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開催概要
名 称 Photomask Japan 2008 第15回ホトマスク技術展示会
主 催 Photomask Japan/ BACUS/ SPIE
協 賛 SEMI ジャパン
後 援 横浜市
会 期 2008年4月16日(水)-17日(木)
※シンポジウムは4月16日(水)・17日(木)・18日(金)
会 場 パシフィコ横浜 アネックスホール(横浜市みなとみらい1丁目1番地)
来場登録 無料
技術展示会の来場登録は無料です。
シンポジウム参加の場合は、別途登録(※有料)が必要です。
参加登録については<Registration>で後日ご案内いたします。
■お問合せ先