PMJ2012 Technical Exhibition (第19回ホトマスク技術展示会)
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 開催概要

名 称 Photomask Japan 2012 第19回ホトマスク技術展示会
主 催 ホトマスクジャパン(PMJ)/ SPIE
共 催 BACUS/ EMLC
協 賛 SEMI ジャパン
後 援 横浜市
会 期 2012年4月18日(水) 10:00-17:30
19日(木) 10:00-16:50
※シンポジウムは4月17日(火)-19日(木)
入 場 入場: 無料(当日登録制)
*技術展示会への入場は無料です。[ 展示会招待券 ]を印刷して、当日名刺を添えて受付にお持ちください。
*シンポジウム参加の場合は、別途登録(有料)が必要です。
参加登録はこちら [ Registration ]
会 場 パシフィコ横浜 アネックスホール(横浜市みなとみらい1丁目1番地)
■お問合せ先
Photomask Japan 事務局
〒101-8449 東京都千代田区猿楽町1-5-18 千代田ビル
(株)ICSコンベンションデザイン内
Phone: 03-3219-3541  FAX: 03-3219-3577
E-mail: