Photomask Japan

PMJ2009 Technical Exhibition （第16回ホトマスク技術展示会）

開催概要

 
          名 称 
          ：
           Photomask Japan 2009　第16回ホトマスク技術展示会 
        

          主 催
          ：
          ホトマスクジャパン(PMJ)/ SPIE
        

 
          共 催
          ：
          BACUS/ EMLC
        

          趣 旨 
          ：
          ホトマスク及びNGLマスク技術に関する最新、あるいは開発中の装置、部品、材料、ソフトウェア等を紹介宣伝して頂き参加者への情報提供及び技術の将来動向、可能性等についてディスカッションを行う。
        

 
          会 期 
          ：
          2009年4月8日（水）-9日（木）

※シンポジウムは4月8日（水）・9日（木）・10日（金）

          会 場
          ：
          パシフィコ横浜　アネックスホール（横浜市みなとみらい１丁目１番地）
        

          来場登録
          ：
          無料
            
                ※
                技術展示会の来場登録は無料です。
              
                ※
                シンポジウム参加の場合は、別途登録（※有料）が必要です。

                  参加登録については＜Registration＞で後日ご案内いたします。

■お問合せ先

Photomask Japan 展示事務局
〒101-8449　東京都千代田区神田錦町3-24　住友商事神保町ビル
（株）ICSコンベンションデザイン内
TEL. 03-3219-3541　　FAX. 03-3219-3626
E-mail. pmj-exh@ics-inc.co.jp