PMJ2019 Technical Exhibition (第26回ホトマスク技術展示会)

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開催概要

名 称:
Photomask Japan 2019 第26回ホトマスク技術展示会
主 催:
ホトマスクジャパン(PMJ) / SPIE
共 催:
BACUS / EMLC
協 賛:
SEMI ジャパン
会 期:
2019年4月17日(水) 10:00-17:00
18日(木) 10:00-17:00(予定)
入 場:
無料(当日登録制)
※技術展示会への入場は無料です。
※シンポジウム参加の場合は、別途登録(有料)が必要です。
会 場:
パシフィコ横浜 アネックスホール(横浜市みなとみらい)

お問合せ先:

Photomask Japan 事務局
〒105-8335 東京都港区芝3-23-1
セレスティン芝三井ビルディング
株式会社JTB コミュニケーションデザイン内
TEL:03-5657-0777 / FAX:03-3452-8550
E-mail:(展示会専用)

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