PMJ2007 Technical Exhibition （第14回ホトマスク技術展示会）
	| 2007年出展社 | 開催概要 | 出展規約 |
	開催概要
	名 称 ： Photomask Japan 2007　第14回ホトマスク技術展示会 主 催 ： Photomask Japan/ BACUS/ SPIE 協 賛 ： SEMI ジャパン 後 援 ： 横浜市 会 期 ： 2007年4月17日（火）-18日（水） ※シンポジウムは4月17日（火）・18日（水）・19日（木） 会 場 ： パシフィコ横浜　アネックスホール（横浜市みなとみらい１丁目１番地） 来場登録 ： 無料 ※ 技術展示会の来場登録は無料です。 ＜展示会招待券＞（PDF/1.5MB）をダウンロードいただき、当日名刺を持参してご来場ください。 ※ シンポジウム参加の場合は、別途登録（※有料）をお願いいたします。 参加登録については＜Registration＞をご参照ください。
	■お問合せ先 Photomask Japan 展示事務局 〒101-8449　東京都千代田区神田錦町3-24　住友商事神保町ビル （株）ICSコンベンションデザイン内 TEL. 03-3219-3561　　FAX. 03-3292-1813 E-mail. pmj-exh@ics-inc.co.jp