PMJ2010 Technical Exhibition (第17回ホトマスク技術展示会)
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開催概要
名 称 Photomask Japan 2010 第17回ホトマスク技術展示会
主 催 ホトマスクジャパン(PMJ)/ SPIE
共 催 BACUS/ EMLC
協 賛 SEMI ジャパン
後 援 横浜市(予定)
会 期 2010年4月13日(火)-14日(水)
※シンポジウムは4月15日(木)まで
会 場 パシフィコ横浜 アネックスホール(横浜市みなとみらい1丁目1番地)
来場登録 無料(当日登録制)
*技術展示会への入場は無料です。 [ 展示会招待券 ] を印刷して、当日名刺を添えて受付にお持ちください。
* シンポジウム参加の場合は、別途登録(※有料)が必要です。
 参加登録はこちら<Registration>
     
■お問合せ先
Photomask Japan 事務局
〒101-8449 東京都千代田区猿楽町1-5-18 千代田ビル
(株)ICSコンベンションデザイン内
Phone: 03-3219-3541  FAX: 03-5283-6567
E-mail.